光刻机
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3nm麒麟要惊艳全球!华为:绕开光刻机,韬定律让中国芯逆袭
7月25日消息,近日,华为技术有限公司山东副总经理、产业发展与生态部部长赵颖恪对外公开介绍了华为全新提出的韬定律,这套全新的产业发展思路,为当下中国芯片产业突破制程限制、走出独立发展路径,提出了完全不同于过往海外技术路线的全新解法。
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美国官方投资EUV初创企业xLight:1000W功率 4倍于ASML光刻机
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High-NA EUV光刻机价值3.8亿美元,ASML已收到10至20台订单
去年末,ASML向英特尔交付了业界首台High-NA EUV光刻机。新设备的体积非常巨大,需要使用13个集装箱和250个板条箱来进行运输,将从荷兰的费尔德霍芬运送到美国俄勒冈州希尔斯伯勒的英特尔半导体技术研发基地,另外还需要250名工程师并花费6个月完成安装。
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27亿一台!ASML展示最新EUV光刻机内部画面:不怕被偷师嘛
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耗资3.5亿美元!阿斯麦展出新型“High NA EUV”设备
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3+亿美元能造1.8nm!Intel收到全球第一台高NA EUV极紫外光刻机
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7nm、3nm光刻机没有无妨!ASML力挺中国:能把成熟制程做到全球领先
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